Mikrostrukturanalys och utvärdering av halvledarmaterial
Serviceintroduktion
Med den kontinuerliga utvecklingen av storskaliga integrerade kretsar blir chiptillverkningsprocessen mer och mer komplex, och den onormala mikrostrukturen och sammansättningen av halvledarmaterial hindrar förbättringen av chiputbytet, vilket medför stora utmaningar för implementeringen av nya halvledare och integrerade kretsteknologier.
GRGTEST tillhandahåller omfattande mikrostrukturanalys och utvärdering av halvledarmaterial för att hjälpa kunder att förbättra processer för halvledar- och integrerade kretsar, inklusive förberedelse av wafernivåprofil och elektronisk analys, omfattande analys av fysikaliska och kemiska egenskaper hos halvledartillverkningsrelaterade material, formulering och implementering av föroreningsanalys av halvledarmaterial program.
Tjänstens omfattning
Halvledarmaterial, organiska småmolekylära material, polymermaterial, organiska/oorganiska hybridmaterial, oorganiska icke-metalliska material
Serviceprogram
1. Beredning av chipwafernivåprofil och elektronisk analys, baserad på fokuserad jonstråleteknik (DB-FIB), exakt skärning av chipets lokala område och elektronisk avbildning i realtid, kan erhålla chipprofilens struktur, sammansättning och andra viktig processinformation;
2. Omfattande analys av fysikaliska och kemiska egenskaper hos tillverkningsmaterial för halvledarmaterial, inklusive organiska polymermaterial, småmolekylära material, analys av sammansättning av oorganiska icke-metalliska material, analys av molekylär struktur, etc.;
3. Formulering och implementering av föroreningsanalysplan för halvledarmaterial.Det kan hjälpa kunder att till fullo förstå de fysiska och kemiska egenskaperna hos föroreningar, inklusive: analys av kemisk sammansättning, analys av komponentinnehåll, analys av molekylär struktur och annan analys av fysikaliska och kemiska egenskaper.
Serviceartiklar
| Servicetyp | Serviceföremål |
| Elementarsammansättningsanalys av halvledarmaterial | l EDS elementaranalys, l Röntgenfotoelektronspektroskopi (XPS) elementaranalys |
| Molekylär strukturanalys av halvledarmaterial | l FT-IR infraröd spektrumanalys, l Röntgendiffraktion (XRD) spektroskopisk analys, l Kärnmagnetisk resonanspopanalys (H1NMR, C13NMR) |
| Mikrostrukturanalys av halvledarmaterial | l Dubbelfokuserad jonstråle (DBFIB) skivanalys, l Fältemissionsskanningselektronmikroskopi (FESEM) användes för att mäta och observera den mikroskopiska morfologin, l Atomkraftsmikroskopi (AFM) för observation av ytmorfologi |
